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>>覆铜板、印制板设计、工艺技术综合类文献
覆铜板、印制板设计、工艺技术综合类文献
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挠性PCB用基板材料的新发展(1)
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挠性PCB用基板材料的新发展(2)
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挠性PCB用基板材料的新发展(3)
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挠性PCB用基板材料的新发展(4)
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挠性PCB用基板材料的新发展(5)
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基板材料对PCB残留应力的影响
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现代覆铜板的技术开发
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对未来我国覆铜板业技术发展的战略与任务的探讨
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对积层法多层板用基板材料技术发展的探讨
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无卤化CCL开发技术的新进展
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无卤FR-4覆铜板“无铅”化
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新型无卤无磷阻燃印制线路板基板
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用于PWB、HDI和先进封装的新型无卤基材
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国内外覆铜板文献摘录(3)
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纸基CCL分层问题探讨
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无铅焊接之隐忧
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微电子封装材料的技术现状与发展趋势
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无铅化PCB及其对CCL基材的要求
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对适应无铅化FR-4型覆铜板技术的探讨
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从ECWC10看适应无铅化覆铜板的发展现状
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世界及我国PCB业的新发展与预测
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“无铅”FR-4覆铜板的开发
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日本新型挠性覆铜板的品种与性能
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低介电常数覆铜板的构成与特性
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国内外覆铜板文献摘录(2)
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氟树脂体系高频PCB应用与基材简介
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“无铅”无卤覆铜板
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日本覆铜板专利摘要(No.9)
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高Tg低介电常数覆铜板的研制
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无卤阻燃覆铜箔板的制备
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对无卤素印制电路板生产工艺的研究
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无卤高耐热性多层PCB板材
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散热型挠性线路板
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环境对线路板性能的影响
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日本覆铜板专利摘要(No.8)
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国内外覆铜板文献摘录(1)
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聚酰亚胺柔性印刷线路板(FPC)研究进展
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无卤阻燃高Tg覆铜板
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运用聚合物合金技术手段促进高性能覆铜板制造业的发展
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中国FPC的现状与未来
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封装用积层法层压板
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覆铜板技术(连载七)
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无卤化CCL开发技术的新进展—对近年相关内容的日本专利综述
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日本覆铜板专利摘要(No.7)
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用于埋入式电容器的新型超高介电常数聚合物复合材料
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高性能数字系统对线路板材料的要求
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无卤化FR—4树脂用酚醛树脂固化剂的技术发展
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低CTE、高Tg覆铜板的开发
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无卤阻燃覆铜箔板的制备
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无卤阻燃高Tg覆铜板
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聚酰亚胺柔性印刷线路板(FPC)研究进展
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